E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione.
Titolo: | Metodo per il maskless patterning e modifica della superficie mediante processi nano-meccanici ed elettrochimici | |
Autori: | ||
Data di pubblicazione: | 2010 | |
Abstract: | E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione. | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11566/83355 | |
Appare nelle tipologie: | 6.1 Brevetto |
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