E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione.
Metodo per il maskless patterning e modifica della superficie mediante processi nano-meccanici ed elettrochimici / Cecchini, R.; Fabrizi, A.; Roventi, Gabriella; Zhang, W.. - (2010).
Metodo per il maskless patterning e modifica della superficie mediante processi nano-meccanici ed elettrochimici
ROVENTI, Gabriella;
2010-01-01
Abstract
E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione.File in questo prodotto:
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