E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione.
Metodo per il maskless patterning e modifica della superficie mediante processi nano-meccanici ed elettrochimici
ROVENTI, Gabriella;
2010-01-01
Abstract
E' stato studiato un nuovo metodo per la fabbricazione maskless e resistless di strati metallici con disegno nan-ometrico su substrato di silicio. Il metodo è basato sulla combinazione di modificazioni nano-meccaniche della superficie ed elettrodeposizione.File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
