Excimer laser reactive ablation deposition of silicon nitride films / E., D'Anna; G., Leggieri; A., Luches; M., Martino; A., Perrone; G., Majni; Mengucci, Paolo; R., Alexandrescu; I. N., Mihailescu; J., Zemek. - In: APPLIED SURFACE SCIENCE. - ISSN 0169-4332. - 86:(1995), pp. 170-174.

Excimer laser reactive ablation deposition of silicon nitride films

MENGUCCI, Paolo;
1995-01-01

1995
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11566/33025
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 9
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 7
social impact