Sono stati ottenuti per elettrodeposizione su substrato ferroso rivestimenti compositi di zinco contenente particelle nanometriche (60 nm) di carburo di silicio. Sono state eseguite elettrodeposizioni potenziostatiche utilizzando un bagno comunemente usato dall’industria galvanica per il processo a rotobarile. I risultati mostrano che la percentuale di particelle inglobate è molto bassa (circa lo 0,1 %) e non varia apprezzabilmente al variare del potenziale; le mappe EDX indicano che le particelle sono uniformemente distribuite nel deposito. L’incorporazione del SiC non determina variazioni nei parametri del processo di elettrodeposizione. Nonostante la scarsa quantità di particelle inglobate, le misure di microdurezza mostrano un aumento di circa il 10 % per i rivestimenti contenenti SiC rispetto a quelli di zinco puro.
Rivestimenti compositi Zn-SiC ottenuti per elettrodeposizione / Roventi, Gabriella; Bellezze, Tiziano; Fratesi, Romeo. - STAMPA. - (2012), pp. 459-462. (Intervento presentato al convegno AIMAT 2012 tenutosi a Gaeta (LT) nel 16-19 Settembre).
Rivestimenti compositi Zn-SiC ottenuti per elettrodeposizione
ROVENTI, Gabriella;BELLEZZE, Tiziano;FRATESI, Romeo
2012-01-01
Abstract
Sono stati ottenuti per elettrodeposizione su substrato ferroso rivestimenti compositi di zinco contenente particelle nanometriche (60 nm) di carburo di silicio. Sono state eseguite elettrodeposizioni potenziostatiche utilizzando un bagno comunemente usato dall’industria galvanica per il processo a rotobarile. I risultati mostrano che la percentuale di particelle inglobate è molto bassa (circa lo 0,1 %) e non varia apprezzabilmente al variare del potenziale; le mappe EDX indicano che le particelle sono uniformemente distribuite nel deposito. L’incorporazione del SiC non determina variazioni nei parametri del processo di elettrodeposizione. Nonostante la scarsa quantità di particelle inglobate, le misure di microdurezza mostrano un aumento di circa il 10 % per i rivestimenti contenenti SiC rispetto a quelli di zinco puro.I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.