Amorphous silicon crystallisation induced by CoSi2 interlayers under XeCl excimer laser irradiation / Mengucci, P., Barucca, G., S., L., A., L.. - (1999), p. 349. (IV Multinational Congress on Electron Microscopy Veszprém (Hungary) ).
Amorphous silicon crystallisation induced by CoSi2 interlayers under XeCl excimer laser irradiation.
MENGUCCI, Paolo;BARUCCA, Gianni;
1999-01-01
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