Amorphous silicon crystallisation induced by CoSi2 interlayers under XeCl excimer laser irradiation.
MENGUCCI, Paolo;BARUCCA, Gianni;
1999-01-01
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.