Amorphous silicon crystallisation induced by CoSi2 interlayers under XeCl excimer laser irradiation / Mengucci, Paolo; Barucca, Gianni; S., Luby; A., Luches. - (1999), p. 349. (Intervento presentato al convegno IV Multinational Congress on Electron Microscopy tenutosi a Veszprém (Hungary)).
Amorphous silicon crystallisation induced by CoSi2 interlayers under XeCl excimer laser irradiation.
MENGUCCI, Paolo;BARUCCA, Gianni;
1999-01-01
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